8月30日(金)AndTech「微細加工リソグラフィ用レジスト開発の動向および今後の展開～EUVリソグラフィ、High NA EUV、ナノインプリントリソグラフィへの適用～」Zoomセミナーを開講予定
株式会社 ＡｎｄＴｅｃｈ【富士フイルム株式会社 エレクトロニクスマテリアルズ開発センター シニアエキスパート：藤森 亨 氏】に、ご講演をいただきます。
株式会社AndTech（本社：神奈川県川崎市、代表取締役社長：陶山 正夫、以下 AndTech）は、
R&D開発支援向けZoom講座の一環として昨今高まりを見せる「半導体・リソグラフィ技術」のニーズに応えるべく、専門家による「リソグラフィ用レジスト開発」についての講座を開講いたします。
リソグラフィの歴史から最新動向まで学習できる講座です。
EUVリソグラフィ、High NA EUV、ナノインプリントリソグラフィ技術について解説し、ナノインプリント用のレジスト開発についても紹介します。
本講座は、2024年08月30日開講を予定いたします。
詳細：https://andtech.co.jp/seminars/1ef383ad-83cc-64a4-a177-064fb9a95405
Live配信・WEBセミナー講習会 概要
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微細加工リソグラフィ用レジスト開発の動向および今後の展開
～EUVリソグラフィ、High NA EUV、ナノインプリントリソグラフィへの適用～
開催日時：2024年08月30日(金) 13:30-16:30
参 加 費：38,500円（税込） ※ 電子にて資料配布予定
https://andtech.co.jp/seminars/1ef383ad-83cc-64a4-a177-064fb9a95405
WEB配信形式：Zoom（お申し込み後、URLを送付）
セミナー講習会内容構成
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ープログラム・講師ー
富士フイルム株式会社 エレクトロニクスマテリアルズ開発センター シニアエキスパート：藤森 亨 氏
本セミナーで学べる知識や解決できる技術課題
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１.リソグラフィにおけるナノインプリントの位置づけ
２.最先端リソグラフィ用EUVレジストとナノインプリントレジストの基礎と課題
本セミナーの受講形式
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WEB会議ツール「Zoom」を使ったライブLive配信セミナーとなります。
詳細は、お申し込み後お伝えいたします。
株式会社AndTechについて
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化学、素材、エレクトロニクス、自動車、エネルギー、医療機器、食品包装、建材など、
幅広い分野のR&Dを担うクライアントのために情報を提供する研究開発支援サービスを提供しております。
弊社は一流の講師陣をそろえ、「技術講習会・セミナー」に始まり「講師派遣」「出版」「コンサルタント派遣」
「市場動向調査」「ビジネスマッチング」「事業開発コンサル」といった様々なサービスを提供しております。
クライアントの声に耳を傾け、希望する新規事業領域・市場に進出するために効果的な支援を提供しております。
https://andtech.co.jp/
株式会社AndTech 技術講習会一覧
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一流の講師のＷＥＢ講座セミナーを毎月多数開催しております。
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株式会社AndTech 書籍一覧
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選りすぐりのテーマから、ニーズの高いものを選び、書籍を発行しております。
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株式会社AndTech コンサルティングサービス
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経験実績豊富な専門性の高い技術コンサルタントを派遣します。
https://andtech.co.jp/business-consulting
本件に関するお問い合わせ
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株式会社AndTech 広報PR担当 青木
メールアドレス：pr●andtech.co.jp（●を@に変更しご連絡ください）
下記プログラム全項目（詳細が気になる方は是非ご覧ください）
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【講演のポイント】
フォトレジスト材料開発、ナノインプリントレジスト材料開発、リソグラフィプロセス、国プロジェクト経験など、講演者はそれらの技術に直接従事もしくは議論・プロジェクト参加した経験があり具体的な課題・展望についての紹介が可能です。
リソグラフィの歴史における最先端リソグラフィレジストの代表としてのEUVレジストおよびナノインプリントレジストの材料開発を解説します。
【プログラム】
1．私たちを取り巻く環境
1.1 EUVリソグラフィと生活への適用
1.2 富士フイルムの電子技術
2. リソグラフィ微細化の歴史
2.1 「ムーアの法則」を実現するためのパターン縮小
2.2 EUVリソグラフィの必要性
3. EUVレジスト技術
3.1 EUVレジストへの挑戦
3.2 リソグラフィーにおける確率的問題
3.3 フォトンショットノイズ
3.4 「KrF/ArF」と「EUV」の違い
3.5 高EUV吸収材料
3.6 パターン収縮の歴史
4. ナノインプリントレジスト
4.1 EUVプロジェクトのロードマップ
4.2 高NA極端紫外線露光 (High NA EUV)の特徴
4.3 NIL技術の特徴
4.4 NIL向けレジスト開発
【質疑応答】
＊ 本ニュースリリースに記載された商品・サービス名は各社の商標または登録商標です。
＊ 本ニュースリリースに記載された内容は発表日現在のものです。その後予告なしに変更されることがあります。
以 上
提供元：PRTIMES