2024年7月18日、株式会社シーエムシー出版（本社：東京都千代田区神田錦町1-17-1、代表取締役：辻賢司）は、脱炭素・省エネの観点から注目されるナノインプリント技術を纏めた書籍「ナノインプリント -次世代微細加工技術の最前線-」(監修：平井義彦 定価：税込67,100円)を発売します。本書籍は、当社ECサイトおよび全国の書店にてご購入いただけます。
目次などの詳細については以下をご覧ください。
https://www.cmcbooks.co.jp/products/detail.php?product_id=115602
刊行にあたって
ナノインプリント技術は,1995年に,当時ミネソタ大学のS. Chou先生がナノインプリント技術を提唱されて,30年近くが経ちました。当初,ナノインプリントリソグラフィとも名付けられ,当時の量産型先端フォトリソグラフィ技術のおよそ10倍の解像性が示され,次世代半導体製造技術としてロードマップにも採り上げられた時期があり,その後,反射防止構造などのサブ波長の光学要素を中心に,多くの工業製品への応用が図られてきました。
その後,Chou先生により,ナノサイズの加工が示され,先端技術への応用が期待されました。しかし,当初期待された最先端の半導体技術への導入は,液浸露光法やダブルパターニング,そしてEUVリソグラフィ技術の目覚ましい発展などにともない,若干影が薄くなっていたことも否めません。一方で,他の微細加工技術にはない,ダイレクトナノインプリント,リバーサルナノインプリント,ハイブリッドナノインプリントなどの特徴あるプロセス技術の創成や,それらに対応する材料技術の開発も行われ,多才なナノ加工技術として定着してまいりました。これに伴い,研究開発は一段落し,2010年ごろから学術論文の発表件数は減少の一途をたどっていました。
しかし,直近の数年間の学術論文の発表件数は,再び増加傾向を示し,新しい局面に入ったことを裏付けています。これは,ナノインプリント技術が,学術的にも産業的にも,再び熱い視線が注がれていると言える状況にあることを物語っているものと言えましょう。その一つが,低コストを生かした半導体フロントエンドプロセスへの適用と,メタバースなどの高機能光学要素の工業化です。
本書では,国内の産官学を代表する研究者,技術者の皆様より,ナノインプリント技術の基礎的な内容と,最新の応用展開につきまして,その技術情報を幅広く紹介するものです。
著者
平井義彦 大阪公立大学;大阪府立大学名誉教授
鈴木健太 (国研)産業技術総合研究所
谷口 淳 東京理科大学
大井秀雄 (株)協同インターナショナル
柳下 崇 東京都立大学
山岸里緒 富山県立大学
竹井 敏 富山県立大学
山内一美 NTT アドバンステクノロジ(株)
江本顕雄 徳島大学
菅野智士 徳島大学
松川晴香 日鉄鉱業(株)
渡邉有希 日鉄鉱業(株)
新井 翔 日鉄鉱業(株)
岸本 章 日鉄鉱業(株)
雨宮智宏 東京工業大学
森 莉紗子 東京応化工業(株)
藤井 恭 東京応化工業(株)
浅井隆宏 東京応化工業(株)
塩田 大 東京応化工業(株)
西山伸彦 東京工業大学
松田晃史 東京工業大学
大西有希 東京工業大学
浅田邦彦 キヤノン(株)
米川雅見 キヤノン(株)
幡野正之 キオクシア(株)
竹内史和 キオクシア(株)
Thomas UHRMANN EV Group E.Thallner GmbH
黒瀧宏和 イーヴィグループジャパン(株)
関口 淳 リソテックジャパン(株);大阪公立大学
魚津吉弘 三菱ケミカル(株)
遠藤達郎 大阪公立大学
青木元秀 東京薬科大学
朱 彦北 (国研)産業技術総合研究所
沖野晃俊 東京工業大学
梅村知也 東京薬科大学
目次
【第I編 ナノインプリント概論】
第1章 ナノインプリントの基礎
第2章 ナノインプリントの進展と今後の展望・課題
第3章 受託ナノインプリントの動向
【第II編 モールド・テンプレート設計技術】
第1章 陽極酸化によるナノインプリント用モールドの作製と無反射レンズ形成への応用
第2章 ガス透過性多孔質モールドの研究進捗
第3章 光硬化性樹脂のナノインプリントへの応用
第4章 光学向けインプリント用材料
第5章 三次元構造
【第III編 プロセス最適化・シミュレーション】
第1章 シリカナノ粒子の吸着を利用したナノインプリント表面充填構造の形成
第2章 UV-NILを用いたシリコンフォトニクスプロセスの開発
第3章 熱ナノインプリントによるポリ乳酸フィルム表面のナノ周期パターン形成
第4章 レジンのUV収縮と熱変形による転写誤差の数値シミュレーション
第5章 ディープラーニングを利用したナノインプリントプロセス・材料の設計
【第IV編 装置・適用事例】
第1章 ナノインプリントリソグラフィ装置の進展と応用
第2章 半導体デバイス製造用ナノインプリントリソグラフィのクリーン化技術
第3章 ナノインプリントリソグラフィと反応性イオンエッチングを用いたデュアルダマシン構造形成
第4章 ナノインプリント・リソグラフィを用いたメタレンズ製造
第5章 実用ナノインプリント技術(ロールto ロール装置,UV-NILを中心に)
第6章 バイオミメティクスを用いた防汚機能を有する胆管ステントの開発
第7章 モスアイ型反射防止フィルム
第8章 ナノインプリント製局在表面プラズモン共鳴型バイオセンサの開発
第9章 UVナノインプリント技術を利用したLA-ICP-MS単一細胞元素分析用試料導入デバイスの開発
