市場促進要因：
1.半導体産業に対する国の政策と資本市場の支援。
2.プラズマエッチングプロセス、特にエレクトロニクス産業における半導体アプリケーションに対する市場需要の増加が、市場の主要な推進力になると予想される。高純度の臭化水素は、半導体の性能向上に不可欠なプラズマエッチングにおいて重要な役割を果たしている。
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制約：
1.今後、市場競争はより激しくなるだろう。例えば、中国ではすでに5社が高純度臭化水素プロジェクトの建設を計画しており、大手企業の売上に一定の影響を与えるだろう。
2.国際市場の不安定さは世界経済に悪影響を与え続けており、それは主に製品の原材料費、国際輸送費、企業の操業率に反映されている。半導体産業全体は2020年と2021年に大きな成長を遂げたが、サプライチェーンには依然として課題がある。
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トレンド：
川下は臭化水素市場の需要を継続的に成長させる：
高純度の電子グレード臭化水素は、チップ製造工程における中核ガスのひとつである。メモリーチップ、先端製造プロセスのロジックチップ、パワー半導体、ディスプレイパネルなどの分野で大きな需要があります。DRAMやNANDの市場規模は今後も拡大し続け、ロジックチップの先端プロセスも進歩し続け、高純度電子グレード臭化水素の市場需要は今後も拡大し続けるでしょう。
高純度臭化水素（HBr）の世界市場規模、上位5社で全体の99％を占める
