純金属スパッタリングターゲット材の市場規模、2029年までCAGR2.1%で成長し、2428.4百万米ドルに予測
1.純金属スパッタリングターゲット材とは
スパッタリングターゲットは通常、様々なサイズと形状の固体スラブである。ターゲット材には、純金属、合金、酸化物や窒化物などの化合物がある。
本レポートでは、純金属スパッタリングターゲット材のみを取り上げる。純金属スパッタリングターゲットは通常、高純度金属から作られている。純金属ターゲットは、他のスパッタ蒸着技術において最も広く使用されている基本的なコーティング材料である。このようなアルミニウム、銅、銀、金などのスパッタリングターゲットは、現代産業では非常に一般的です。
コロナ禍によって、純金属スパッタリングターゲット材(Pure Metal Sputtering Target Materials)の世界市場規模は2022年に2036百万米ドルと予測され、2029年まで、2.1%の年間平均成長率(CARG)で成長し、2428.4百万米ドルの市場規模になると予測されています。
純金属スパッタリングターゲット材料の世界主要プレーヤーには、JX Nippon、Honeywell Electronic Materials、KFMI、Plansee、Tosohなどが含まれる。世界のトップ5メーカーが54%以上のシェアを占めている。主要プレーヤーは主に欧州、北米、中国、日本に位置している。製品別では、高純度品が最大のセグメントで、シェアは62%を超えている。また、用途別では、半導体が最も多く、43%以上のシェアを占め、次いでLCDディスプレイとなっている。
2.本レポートに含むメーカー
メーカー別:JX Nippon、Honeywell Electronic Materials、KFMI、Plansee、Tosoh、Materion、Sumitomo Chemical、Hitachi Metals、ULVAL、GRIKIN、Acetron、Luvata、KJLC、Longhua Technology
上記メーカーの企業情報、純金属スパッタリングターゲット材販売量、売上、粗利益など記載されています。
純金属スパッタリングターゲット材が下記タイプとアプリケーション別に分けられます:
タイプ別:Low Purity、High Purity、Ultra High Purity
アプリケーション別:Semiconductors、Solar Cell、LCD Displays、Others
また、本レポートは地域別で純金属スパッタリングターゲット材の市場概要(販売量、売上高(2018-2029))などを分析しています。具体的には、下記国・地域が含まれています。
北米:アメリカ、カナダ
ヨーロッパ:ドイツ、フランス、イギリス、イタリア、ロシア、その他のヨーロッパ地域
アジア太平洋地域:中国、日本、韓国、東南アジア、インド、オーストラリア、その他のアジア太平洋地域
ラテンアメリカ:メキシコ、ブラジル、その他のラテンアメリカ地域
中東とアフリカ:トルコ、サウジアラビア、アラブ首長国連邦、その他の中東及びアフリカ地域
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https://www.qyresearch.co.jp/reports/434506/pure-metal-sputtering-target-materials