(株)JFEサンソセンター福山工場でのクリプトン・キセノン製造装置設置のお知らせ

2022/07/08  日本酸素ホールディングス 株式会社 


2022年 7 月8日

(株)JFE サンソセンター福山工場での クリプトン・キセノン製造装置設置のお知らせ

大陽日酸株式会社(社長:永田研二)は、JFE スチール株式会社(社長:北野嘉久)と合弁で運営している株式会社 JFE サンソセンター(社長:上原正弘)福山工場にレアガスであるクリプトン・キセノンの製造装置を新たに設置することを決定しましたので、下記の通りお知らせいたします。



1.背景

レアガス(クリプトン・キセノン)は大型空気分離装置における酸素・窒素・アルゴン製造時の副産物として採取されるため、大型空気分離装置の少ない日本においては、大半を輸入に頼っています。

需要面では主にエレクトロニクス・照明・宇宙・省エネルギー分野等で利用されており、近年、世界的に需要が増加する一方、供給はタイト化しているのが現状です。また、日本国政府としてもこれらレアガスを半導体製造プロセス用ガスと認識し、安定供給確保のための対策を早急に講じる必要のある物資として対策を検討していくとしています。

当社は株式会社大分サンソセンターでレアガスを製造していますが、こうした需給環境および政府の方針を鑑み、お客様に安定的にレアガスを供給すべく国内生産を増強し、サプライチェーンの強靭化を図るため、新たに株式会社 JFE サンソセンター福山工場にレアガス製造装置を設置することを決定しました。

2.新規レアガス製造装置の概要

設 置 場 所 : 株式会社 JFE サンソセンター福山工場
生 産 能 力 : クリプトン 2,600 千L/年 キセノン 210 千L/年
稼働予定時期 : 2024 年4月

3.株式会社 JFE サンソセンター概要

所在地 : (本社、福山工場) 広島県福山市鋼管町1番地
(京浜工場) 神奈川県川崎市川崎区扇島 1 番地 (倉敷工場) 岡山県倉敷市水島川崎通1丁目
設立 : 1966 年4月1日
資本金 : 90 百万円
出 資 比 率 : 大陽日酸(株) 60%、JFE スチール(株) 40%

以上

本件に関するお問い合わせ
大陽日酸株式会社
東京都品川区小山 1-3-26
広報部
TEL:03-5788-8015
MAIL:Tnsc.Info@tn-sanso.co.jp

関連業界